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1.1 CAD和OrCAD设计
第1章 印制电路板设计和CAD简介
1.1 CAD和OrCAD设计套件
深入介绍PCBEditor之前,先简要讨论一下CAE。
CAE工具覆盖了工程设计中从绘图、分析到制造的所有方面。
CAD是CAE的一个分支,它涉及系统设计中的物理布设和绘图。
专门用于电子工业的CAD软件称为电子CAD(ECAD)或EDA(ElectronicDesignAutomation,电子设计自动化)。
在购买和制造硬件前,EDA工具可以仿真设计和分析,减少开发时间和费用。
电路设计经绘图、仿真、分析等验证后,该系统就可以生产了。
生产中应用的软件称为CAM工具。
CAM工具应用软件和设计数据(由CAE工具产生的)来控制自动化生产设备,将设计理念变为现实。
那么,OrCAD/Cadence是如何适应所有这些要求的呢?
Cadence拥有并管理着许多种与电子工业相关的CAD/CAM产品,包括OrCAD设计套件。
OrCAD设计套件可以从分销商处购买,比如EMA自动化设计公司,他们将不同组合的CAD/CAM软件打包,包括Capture、PSpice和PCBEditor,以满足顾客的需要。
这些软件可以单独应用,但将各个工具捆绑成组件可以实现软件间的交互。
Capture是软件包的核心,是最主要的EDA工具。
Capture拥有丰富的元件库,它们用于生成原理图。
而原理图可以单独应用,也可以与PSpice、PCBEditor甚至二者同时应用。
典型的Capture元件如图1-1所示。
(点击查看大图)图1-1 "元件"的组成
Capture元件的引脚可以画成PSpice模型引脚或PCBEditor的物理封装引脚。
PSpice作为CAE工具,包含用于仿真的数学模型,而PCBEditor作为CAD工具,可以将符号原理图转化成设计图的物理实现。
网络表用于设计图中元件的互联,以及每个元件及其模型和封装的联接。
除了作为CAD工具,PCBEditor还是前置的CAM工具,生成其他CAM工具制作PCB所需要的数据。
将3个应用软件组成工具包,形成了有效设计、测试和制作电子电路的强有力工具集。
工程设计和生产成功的关键是理解PCB本身,以及懂得如何应用工具来实现PCB。
1.2 印制电路板的生产
现在来看一看PCB是如何生产的,以便于更好地理解应用PCBEditor所完成的工作及其原因。
PCB包括两个基本部分:
基板(板材)和印制线(铜线)。
基板作为结构件,是电路元件和布设的印制线的物理支撑,并实现了传导元件间的电气隔离。
最常用的基板类型是FR4,它是一种玻璃纤维/环氧树脂层压板。
它同老式的玻璃纤维板很相似,但涂了阻燃剂。
基板也可以采用聚四氟乙烯、陶瓷和特殊聚合物制成。
1.2.1 PCB芯层和叠层
PCB的生产过程从覆铜箔基板开始,如图1-2所示。
(点击查看大图)图1-2 双面覆铜的FR4基板
刚性基板是C阶层压板(完全固化的环氧树脂)。
可以在基板上覆铜或者将铜箔粘在基板上。
铜箔厚度由每平方英尺(ft2)铜的盎司(oz)数量来衡量,1.0oz/ft2的铜箔大约是1.2~1.4mil厚。
通常情况下去掉"/ft2",仅用oz表示厚度。
例如,可以规定在1/8in厚的FR4基板上镀覆1oz铜。
基板可以一面或双面覆铜。
多层板是由一个或多个单面或双面被称为芯层的基板组成。
芯层是覆铜环氧树脂层压板。
如图1-3所示,可以用一张或多张部分固化的环氧树脂薄片将芯层粘结起来。
图1-3 芯层和预浸料
薄片也称为预浸料或B级层压板。
所有芯层成型(如下所述)并对准后,整个组件在高温高压下完全固化。
将芯层装配成多层板有3种方法。
图1-4为一个包括4个布线层和2个平面层的例子,它展示了前2种方法。
图1-4a表示3个(双面)芯层通过2个预浸层粘结起来;而图1-4b表示由1个预浸层将2个芯层粘结在一起组成类似的六层结构,芯层形成了4个内层。
该在制板的外层是用预浸层粘结到组件上的铜箔片。
(点击查看大图)图1-4 适用于六层板的2个叠层方法
图1-4的布线层由分段铜线表示,平面层用实线表示。
内层的绘图要在芯层粘结之前。
外层绘图在生产过程的后期,在芯层粘结和固化以及大多数孔钻完之后进行。
因为外层蚀刻较晚,而且铜箔通常比覆铜便宜,所以图1-4b显示的叠层应用更广泛。
第3种方法如图1-5所示,它应用了数种制造技术,用于制造非常复杂的印制板。
该电路板的核心是典型的四层芯堆叠,但顶部和底部的附属层是采用顺序层压技术一层层制成的。
该技术可以用来制作盲孔、埋孔、典型镀覆孔、非镀覆孔和后钻镀覆孔。
电阻和电容也能嵌在基板里。
后续章节(第8章和第9章)有更多关于盲孔的讨论。
(点击查看大图)图1-5 多技术组合式PCB叠层
1.2.2 PCB的生产流程
通过选择性地去除覆铜和铜箔,制成PCB上的铜线和焊盘。
通常用两种方法去除多余的铜:
湿法酸性蚀刻和机械碾磨。
当大量生产印制板时,酸性蚀刻法应用更广泛,因为可以同时制作这些印制板。
酸性蚀刻法的缺点是化学物品有危险性而且必须不定期添加,用过的化学物品必须回收或丢弃。
碾磨法常用于小批量工期短的产品和模板。
碾磨时,通过旋转钻头将基板上多余的铜碾磨掉,形成走线和焊盘。
无论何种方法,均用数字图形生产覆铜图形。
CAD软件,比如OrCADPCBEditor,就是用于生成数字图形。
注意 下述生产过程的介绍仅仅考虑了一层。
1.2.3 显像和化学蚀刻
用蚀刻法选择性地去除铜,需要蚀刻掉多余的铜,同时保护需要的铜免受蚀刻。
将一种聚合物(称为光致抗蚀剂)沉淀到铜箔表面就形成了保护层,如图1-6所示。
图1-6 涂覆光致抗蚀剂的覆铜板
将光致抗蚀剂绘成所需印制电路的过程称为显像。
抗蚀剂图形保护所选的覆铜区免受蚀刻剂影响,并曝光需要蚀刻的铜。
显像的两个步骤是绘制光致抗蚀剂图形和显影。
绘图是通过曝光抗蚀剂(通常用紫外线)实现的,显影是将它放在化学槽中清洗实现的。
光致抗蚀剂有两种:
正性抗蚀剂和负性抗蚀剂。
当正性抗蚀剂曝光到紫外线中时,聚合物分解并被从铜箔上除去。
而使用负性抗蚀剂时,未受紫外线照射的负性抗蚀剂将被除去。
掩模用来曝光光致抗蚀剂的期望部分。
掩模是专用的黑色或白色光绘胶片或玻璃底片,其上用激光光绘机印制走线和焊盘。
如图1-7所示为两种掩模。
(点击查看大图)图1-7 照相掩模
掩模表示了连接到焊盘的走线。
图1-7a为用于曝光正性光致抗蚀剂的正性掩模,而图1-7b为用来曝光负性光致抗蚀剂的负性掩模。
重复使用的掩模多用玻璃底片而不是胶片制成。
如图1-8所示,掩模放在光致抗蚀剂上面,将装配件用紫外线曝光。
黑色区域阻挡紫外线,白色(透明)区域允许紫外线分解光致抗蚀剂,从而将电路图印制到光致抗蚀剂上。
不同的掩模用于电路板的不同层。
OrCADPCBEditor会输出光绘机制作掩模所需的数据。
另一种曝光光致抗蚀剂的方法是用可编程激光器直接在光致抗蚀剂上"绘制"图形。
这是一种称为激光直接绘图(LDI)的新技术。
LDI方法的优点是它使用与光绘机相同的数据,但不需要掩模。
光致抗蚀剂被曝光后(用掩模和紫外线或激光器),放到称为显像剂的化学溶液中清洗。
如果是正性抗蚀剂,则抗蚀剂在曝光时分解,由显像剂去除。
如果是负性抗蚀剂,则紫外线固化抗蚀剂,只有未曝光的抗蚀剂被显像剂去除。
正性抗蚀剂常用的显像剂是氢氧化钠(NaOH),而负性抗蚀剂常用的显像剂是碳酸氢钠(Na2CO3)。
如图1-9所示,抗蚀剂被曝光和显像后,铜箔上留下了光致抗蚀剂组成的电路图。
图1-8 光致抗蚀剂涂覆板的正性掩模
图1-9 铜箔上显像后的光致抗蚀剂
随后,印制板在腐蚀性溶液中蚀刻,比如碱性氨水和氯化铜。
蚀刻溶液不会明显影响光致抗蚀剂,但会溶解裸露的铜箔,并将它从基板上除去,然后留下抗蚀剂保护的铜,如图1-10所示。
有些方法用镀锡合金作为蚀刻抗蚀剂。
对于蚀刻剂,镀锡合金有更强的抗蚀性,并为焊接过程预先准备了铜箔表面。
在这种情况下,显像过程是在蚀刻之前,在铜箔表面选择性地镀覆电路图形。
当使用聚合蚀刻抗蚀剂时,用抗蚀剂清除器将光致抗蚀剂从铜箔上清除,留下铜走线。
如图1-11所示为最后的覆铜图形。
当使用金属蚀刻抗蚀剂时,镀覆层常留在原处。
至此,焊盘中并没有蚀刻引线孔,因为为保证印制板层间孔的正确对准,它们是在所有芯层被粘结在一起(流程的后期)后钻孔形成的。
图1-10 蚀刻去除多余的铜
图1-11 蚀刻后的覆铜盘和导线以及抗蚀剂带
1.2.4 机械碾磨
如同前面所述,碾磨可以替代蚀刻。
为了碾磨印制板,CNC(ComputerNumericalControl,计算机数控)机械需要根据印制板的数字图形进行编程,碾磨掉多余的铜。
多余的铜箔可以彻底去除(如图1-11所示),或者仅仅去除足以隔离焊盘、走线与大范围覆铜区的铜箔,如图1-12所示。
仅仅去除足以隔离走线和大范围覆铜区的铜箔,减少了碾磨时间,但可能影响走线的阻抗。
图1-12 机械碾磨形成的走线
1.2.5 叠层对准
内层完成绘图后,将芯层对准,并粘结起来。
对准要求很严格,因为钻孔时,每一层的焊盘都需要正确对准。
对准是通过对准图形(称为基准)和印制板上的工具孔实现的,工具孔用于插入定位销。
芯层定位并正确对准后,加热加压固化装配件。
装配件固化后,进行钻孔,用于通孔元件引线和过孔。
因为层压板和高速钻头之间的摩擦,钻孔过程不可避免会加热层压板。
这将软化层压板,并在钻出的铜箔侧壁上形成钻污。
钻孔过程结束后,将装配件放到溶液槽中对层压板进行微小的蚀回,清洗覆铜焊盘的侧壁表面,称其为层压板蚀回或去钻污。
完成钻孔和去钻污后,不同层的焊盘之间形成了物理连接,如图1-13a所示,但它们之间没有电气连接。
为了使不同层的焊盘之间建立电气连接,将印制板放到镀覆槽中为孔壁镀铜,形成焊盘间的电气连接,从而有镀覆孔一词。
镀层有不同的厚度,一般厚度约为1mil。
图1-13b的剖切面表示了印制板内层的镀覆孔。
实际上,顶层和底层的覆铜是在电镀过程结束后绘制的,因为电镀过程将重新电镀已去除铜的区域。
(点击查看大图)图1-13 印制板的钻孔及覆铜
并非所有层都有走线。
某些层是平面层(见图1-14)。
平面层的一般应用是为电源和地提供了低阻抗(电阻和电感)通路,提供了印制板任何位置到电源和地的便捷通路。
平面层和阻抗问题将在第6章讨论。
将元件引线焊接到镀覆孔上,实现了它们与地或电源的连接。
因为铜有良好的导热性能,所以焊接到平面层时需要很高的热量,这将损坏元件或孔的镀覆层(称为孔壁)。
如图1-14所示,应用散热焊盘,可以在减小热传导通道的同时保留与平面的电气连接。
因为接地层和电源层多为内层,信号层可能在它们上面或下面,所以在很多情况下,通孔将穿过平面层,但必须不能碰到它。
此时,在平面层的通孔周围蚀刻出"隔离"区(如图1-15所示),防止其与平面层连接。
隔离区比标准焊盘的尺寸大,以保证平面层和镀覆孔的隔离。
图1-14 通过散热焊盘连接平面层
图1-15 介于镀覆孔和平面层之间的隔离区
通孔电镀后,类似于内层,在顶层和底层用显像方法绘图。
外层覆铜完成绘制后,暴露的走线和镀覆孔被镀锡(尽管有时镀锡推迟到后期)。
同时,钻铣非镀覆孔(比如安装孔)。
随后,通常在印制板的顶层和底层涂覆聚合物薄层。
该层(如图1-16所示暗绿色)称为阻焊层或阻焊剂。
用显像法在聚合物层上开孔,露出元件焊接到印制板所需的焊盘和孔。
阻焊层可以保护顶层和底层的铜箔不被氧化,防止相近焊盘之间形成焊桥。
有时阻焊层并不在非常小而且密集的孔(称为掩蔽孔)上开口。
掩蔽孔是用来防止化学物(如助焊剂)流入孔中的。
掩蔽也阻止焊剂迁移进孔,这可以防止靠近或连接到通孔的小元件焊接不良。
最后,将标志(称为丝网印刷)放置到印制板上,以标识元件的位置。
丝网印刷如图1-16中白色表示。
图1-16 最后一层是阻焊层(暗绿色)
和丝网印刷层(白色)(另见彩插)
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