三氯氢硅中痕量磷气相色谱图测定.ppt
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三氯氢硅中痕量磷气相色谱图测定.ppt
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三氯氢硅中痕量磷的气相色谱图三氯氢硅中痕量磷的气相色谱图目录目录样品采样样品采样检测依据及设备检测依据及设备检测原理及工艺流程图检测原理及工艺流程图检测环境及影响因素检测环境及影响因素检测报告书检测报告书气相色谱法测定三氯氢硅中痕量磷气相色谱法测定H2的组分三氯氢硅的采样:
三氯氢硅三氯氢硅的采样:
三氯氢硅检测依据检测设备检测依据检测设备三氯氢硅中痕量磷的气相色谱测定色谱法基本原理:
基于时间的差别进行分离。
色谱法基本原理:
基于时间的差别进行分离。
将气化的混合物或气体通过含有某种物质的管,基于管中物质对不同化合物的保留将气化的混合物或气体通过含有某种物质的管,基于管中物质对不同化合物的保留性能不同而得到分离。
这样,就是基于时间的差别对化合物进行分离,样品经过检测性能不同而得到分离。
这样,就是基于时间的差别对化合物进行分离,样品经过检测器以后,被记录的就是色谱图,每一个峰面积代表最初混合样品中不同的组分。
峰出器以后,被记录的就是色谱图,每一个峰面积代表最初混合样品中不同的组分。
峰出现的时间称为保留时间,可以用来对每个组分进行定性,而峰面积现的时间称为保留时间,可以用来对每个组分进行定性,而峰面积(或峰高或峰高)的大小的大小则是组分含量大小的度量。
则是组分含量大小的度量。
气相色谱仪系统及分析步骤系统:
系统:
一个气相色谱系统包括:
可控而纯净的载气源(它能将样品带入一个气相色谱系统包括:
可控而纯净的载气源(它能将样品带入GCGC系统系统)、进样口(它同时还作为液体样品的气化室)、色谱柱(实现随时间的分)、进样口(它同时还作为液体样品的气化室)、色谱柱(实现随时间的分离)、检测器(当组分通过时检测器电信号的输出值改变从而对组分做出响离)、检测器(当组分通过时检测器电信号的输出值改变从而对组分做出响应)、数据处理装置。
应)、数据处理装置。
分析步骤:
分析步骤:
注射载气稀释注射载气稀释H2H2还原还原NaOHNaOH脱除还原产物干冰丙酮脱除水分脱除还原产物干冰丙酮脱除水分进入液氮捕集柱进入液氮捕集柱PH5PH5固化固化三氯氢硅中痕量磷的测定气相色谱法在高温富氢条件下,三氯氢硅被氢还原生成硅、氯化氢和各种氯代硅烷;SiHCl3中杂质磷在石英砂催化下被还原成磷化氢用氢氧化钠溶液分离磷化氢,混合氯代硅烷被水解生成硅酸钠,氯化氢被氢氧化钠中和。
反应式如下:
SiHCl3+2NaOH+H2O=Na2SiO3+3HCl+H22P+3H2=2PH3当反应达动态平衡后,磷化氢可定量从氢氧化钠溶液中逸出。
经富集及色谱分离后,磷化氢进入双火焰光度检测器进行HPO光发射,中心波长为526nm。
根据其光发射强度与磷的浓度成正比的关系计算磷的含量根据其光发射强度与磷的浓度成正比的关系计算磷的含量。
仪器与试剂:
1.RC-01型高温氢还原-硫磷气相色谱仪。
2.氢氧化钠化学纯3.三氯化磷优级纯4.三氯氧磷分析纯5.磷酸三乙脂分析纯6.高纯三氯氢硅7.钢瓶装空气氧气(21%);氩气(99.99%);氢气(99.63%)氢气的净化:
钢瓶装氢气经硅胶、5A分子筛、脱水、脱磷化氢后,再经液氮温度下的5A分子筛进一步脱水、脱磷化氢气相色谱法测定干法H2的组分采样氢气:
高纯氢(GB/T7445-1995),经5A分子筛和变色硅胶吸附固定相:
6201但体(40-60)目DC-703硅油工艺流程图气相色谱流程示意图A123456791081112SC-3A型气相色谱仪一台气相色谱仪一台主机主机:
主机上有层析室恒温箱、热导检测器、离子室、汽化室、气体进样器和气路控制系统以及温度测量系统,主机左外侧装置有四通气体进样阀。
WK-01型温度控制器WY-01型供电器WF-01型微电流放大器记录仪表记录仪表采用XWC-100/AB型运行基本条件:
需220V交流稳压电源维护和保养:
设备保持通风干燥,避免与酸、碱接触,无尘玻璃色谱柱玻璃色谱柱D:
4mmL:
3m固定相固定相6201但体(40-60目)DC-703(或1#)硅油石英小瓶石英小瓶(约5ml,带橡皮塞)10ml注射器注射器和5#不锈钢注射针头注射针头耐高温硅橡胶板硅橡胶板干燥氢气氢气的要求(在大干燥器管内装入净化氢气用的5A分子筛或105钯分子筛和硅胶等吸附剂,两端再填满玻璃棉和细铜丝网,使色谱仪工作时不受O2和H2O的干扰,并保持仪器内部干燥,清洁。
仪器工作时需0.15MP以上的氢气压力,以保证设备工作正常。
)氢氟酸氢氟酸、重铬酸钾重铬酸钾、浓硫酸浓硫酸、乳胶管乳胶管、取样袋取样袋、镍铬丝镍铬丝工艺流程图通气送电取样注射样品色谱图测量、计算发报告、处理样品仪器升温关闭电、气分析步骤1、打开氢气阀门,将载气流量调到40ml/min,待气流量稳定2、打开设备电源开关3、待设备稳定后,进入“定温设置”界面,设定“柱箱”温度70,“汽化室”温度100,“检测器”温度904、在恒温控制0.5h左右,进入“热导”界面,开启热导工作开关5、取少量SiHCl3样品在预先准备好的小石英甁内,用1ml注射器抽取SiHCl3液体样品约0.02ml,迅速注入进样口,样品在载气推动下送入色谱柱进行分离,通过检测器检定和色谱工作站处理,获得HCLSiH2CL2SiHCl3SiCl46、每个样品测试3-5次,以保证测试结果的准确性环境运行控制1、本岗位存在的环境因素:
潜在的氢气泄露引起的燃烧和爆炸。
2、本岗位需控制的环境因素:
氢气的泄露、燃烧和爆炸。
3、运行控制
(1)在进入有H2的实验室时,应先通风。
(2)对于实验室的气瓶或管道,必须保证不泄露并经常检查。
(3)高压气瓶(H2,O2)必须隔开放置,严防阀门漏气。
(4)工作完毕必须关闭气瓶阀。
(5)下班时室内要保持一个气窗,以防止H2在室内的积累。
(6)配置灭火器、消防栓等应急设施。
生产单位乐山嘉源有限公司样品数量5mlSiHCl3检验报告检验报告检验结论符合合同要求主检人员:
何霞、赵世海质检机构(公章)审核人员:
陈莉、徐航批准人员:
签发日期:
2013年12月16日检测项目三氯氢硅中痕量磷的气相色谱检测规格型号SiHCl3委托单位及地址乐山职业技术学院产品等级优等品乐山市市中区肖坝路108号抽样基数单晶棒头中尾各三片检验依据国标GBGB/T6618-1995抽/送样日期2013-12-12检验状态符合检验要求检验日期2013-12-16检验类别委托检验检验结果欣!
谢谢赏
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- 三氯氢硅中 痕量 磷气相 色谱 测定
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